中国的先进芯片技术曙光已现，恐惧的ASML立即低头服软

　　近日全球光刻机巨头ASML的高管中国区总裁沈波接受国内媒体采访的时候，表示将始终秉持以客户为中心的服务理念，为中国客户提供周到服务，此举代表着ASML终于服软，迫使它低头的原因在于中国先进芯片技术的突破。
　　当下的硅基芯片技术已经发展了数十年，它已逐渐达到极限，普遍认为1nm工艺就是硅基芯片的极限，而目前进展到3nm工艺之后，更先进的2nm工艺研发已陷入瓶颈，拥有先进工艺的台积电和三星都预计2nm工艺至少到2024年，它们将不得不持续对3nm工艺改进，推出3nm工艺。
　　更令ASML忧心的是即使是当下已经量产的3nm工艺也面临无客户采用的问题，台积电原来预计采用3nm工艺的Intel和苹果都已宣布放弃，导致台积电不再量产3nm工艺，而计划在明年推出改良后的N3E工艺，如此情况下它们自然不太可能继续大量采购EUV光刻机。
　　当下ASML直接面临的窘境则是全球芯片产能供给过剩，可能导致本来计划推进的芯片产能扩张计划被暂停，如此ASML正在生产的DUV、EUV光刻机都可能成为库存，如果台积电和三星的2nm工艺也延期，那么未来两年ASML将面临无米下锅的问题，甚至可能面临生存危机。
　　此时中国市场的重要性得到凸显，中国大陆是当下全球芯片行业唯一一个仍然确定继续扩张芯片产能经济体，但是由于众所周知的原因，ASML不能将EUV光刻机卖给中国，近期更连14nm以下的DUV光刻机也不能卖给中国，ASML自然非常忧心，最终迫使ASML服软的原因则是中国在先进芯片技术方面的突破。
　　量子芯片被认为是取代现有硅基芯片技术的方向之一，这方面我们已走在全球前列，据悉中科院院士郭光灿创立的本源电子正在推进第二个量子芯片生产项目，这意味着它推进量子芯片产业化方面进展顺势，因此才加速扩张。
　　为了帮助国内芯片企业开发符合商业应用的量子芯片，本源电子还开始研发国产的量子芯片EDA软件。EDA软件被誉为芯片之母，它的作用在于芯片设计企业以EDA软件开发芯片，然后再将相关的设计传给芯片制造企业，芯片制造企业根据相关的设计制造芯片。
　　EDA软件本来几乎由美国企业垄断，此前美国方面曾一直强调这类软件会坚持开放，然而从2019年以来美国陆续采取措施，中国的哈尔滨工业大学、华为等机构或企业因故被停止授权EDA软件，让中国深刻认识到了自主研发EDA软件的重要性，如今本源电子在量子芯片还在推进研发当中就准备了EDA软件，意味着我国未来在量子芯片方面将形成独立体系，不受海外的影响。
　　在量子芯片之外，中国其他芯片企业还在研发光芯片、石墨烯芯片等等，这些先进的芯片技术都不再需要当下硅基芯片所采用的光刻机，如此可能才是迫使ASML迅速低头并向中国芯片业界示好的原因。
　　如果中国能推动这些新芯片技术的量产，那么ASML的光刻机就有可能变成废铁，在ASML本来已可能出现光刻机库存问题之下，中国大陆芯片行业再进一步量产先进芯片技术，那对于ASML来说将是灭顶之灾，如此情况下ASML当然要低头，以维持与中国大陆芯片行业的良好关系，一旦未来政策松动，立即就可以将光刻机库存卖给中国。
　　可以看出，中国在芯片设备市场能否获得更多主动权，关键还是在于我们自身的芯片技术研发实力，只要我们足够强，那么就会轮到外国芯片设备企业求我们买设备，而不再是如今天这样想方设法的期待ASML出售光刻机。
　　正如倪光南院士所说的那样，一定要独立自主，只有走好我们的路，别人才会正眼看待，而如今中国芯片行业的诸多技术突破无疑说明中国科技工作者的能力，他们的努力已让海外芯片行业看到中国的潜力，任何阻碍都挡不住中国芯片的前进脚步。